Зеленоградский нанотехнологический центр вывел на комплексные испытания два опытных образца установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Для российской микроэлектроники это не история про «догнать TSMC», а более приземлённый и потому важный сюжет: в стране пытаются сделать собственный инструмент для фотошаблонов, прототипов и малых серий специализированных микросхем.
О разработке стало известно из тендера на перевозку оборудования, на который обратил внимание CNews. Документы опубликовали в июне 2026 года. В них речь идёт об опытном образце установки электронно-лучевой литографии, созданной в рамках ОКР «Прогресс ЭЛЛ 150». Точка отправления указана в Зеленограде, а место назначения не раскрывается. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев уточнил CNews, что установку отправят примерно за 2 тыс. км от Зеленограда.
Безмасочная литография для прототипов и малых серий
Главная деталь здесь не только в цифре 150 нм, хотя именно её обычно выносят в заголовок. Важнее, что установка работает в режиме безмасочной литографии. Если упростить, это не классическая схема с переносом рисунка через заранее изготовленный фотошаблон, а прямое формирование топологии сфокусированным пучком электронов.
Такой подход нужен там, где объёмы небольшие, требования нестандартные, а время на переделку схемы важнее скорости массового выпуска. Для НИОКР, прототипирования и специальных применений логика простая: изменил топологию, снова записал рисунок и не ждёшь новый комплект масок. Обратная сторона тоже известна: прямая запись медленнее и плохо подходит для крупной серии.
Испытания займут около четырёх месяцев
По данным CNews, речь идёт не только о самой установке, но и о базовых технологических процессах формирования топологических элементов интегральных схем с проектными нормами 150 нм. Это важная оговорка. В микроэлектронике мало собрать «железо»; нужно ещё добиться повторяемого результата по точности, равномерности рисунка и стабильности процесса.
Сейчас оба опытных образца проходят комплексные испытания. Ковалев говорил, что этот этап продлится около четырёх месяцев. После него должны начаться испытания на точность изображения и другие технологические параметры. Иначе говоря, до промышленной эксплуатации ещё далеко: рынок получит повод для оптимизма только тогда, когда установка подтвердит заявленные характеристики не в презентации, а на практике.
150 нм не про рекорды, а про технологическую базу
150 нм в 2026 году не выглядят передовым техпроцессом для потребительских чипов, и здесь не стоит подменять одно другим. Но для силовой электроники, специализированных контроллеров, научных задач и выпуска небольших партий собственный инструмент такого класса может оказаться полезнее громких обещаний про «отечественный аналог всего». В этом сегменте ценят не рекорды по плотности транзисторов, а доступность, управляемость процесса и независимость от внешних поставщиков.
Контекст у проекта тоже показательный. Ранее ЗНТЦ сообщал о фотолитографе с разрешением 350 нм, который передали компании «Отраслевые решения» из группы «Элемент». Кроме того, в 2026 году в отрасли обсуждали планы по созданию оборудования уже для 90 нм. Если смотреть на эти проекты вместе, вырисовывается более реалистичная стратегия: сначала наращивать компетенции на менее сложных классах оборудования, а не сразу обещать замену передовым зарубежным фабам.
Почему это важно для российского рынка
Для инженерных команд, фаблесс-разработчиков и компаний, которым нужны собственные микросхемы малыми партиями, такая установка потенциально может сократить зависимость от длинной и хрупкой международной цепочки поставок. Это не повод срочно переписывать бизнес-планы, но повод внимательно следить за испытаниями. Если ЗНТЦ доведёт проект до рабочего инструмента с подтверждённой точностью, сервисом и понятной экономикой, у российского рынка появится ещё один локальный вариант для изготовления фотошаблонов, тестовых структур и специализированных изделий.
Следующий рубеж очевиден: не сама перевозка установки, а результаты испытаний и появление первых реальных заказчиков покажут, превратится ли опытный образец в полезный для отрасли инструмент.