литография

🌐
ASML 05 Авг 2026 · 4 мин

Китай готовит первые DUV-сканеры для фабрик, но до ASML далеко

Пять китайских DUV-литографов планируют поставить на фабрики в 2026 году: почему это пока не прорыв, а жесткий тест для ASML,…

🎯
КИТАЙ 31 Июл 2026 · 4 мин

Aishengna связали с первым китайским иммерсионным DUV-сканером

Госкомпания Aishengna с капиталом 7 млрд юаней названа разработчиком первого китайского иммерсионного DUV-сканера для 7-нм класса.

🌐
LG 30 Июл 2026 · 3 мин

LG начала продажи литографических систем без фотошаблонов

LG поставила первым клиентам лазерные литографы по $2 млн, которые обходятся без фотошаблонов и ускоряют выпуск плат и подложек.

🔮
КИТАЙ 29 Июл 2026 · 3 мин

Китай запустил выпуск DUV-литографов с первыми поставками в 2026 году

Китай запустил производство установок для иммерсионной литографии: первые поставки в 2026 году должны помочь локальным фабрикам меньше зависеть от импорта.

🧠
ЗНТЦ 29 Июл 2026 · 3 мин

ЗНТЦ вывел на испытания электронно-лучевой литограф 150 нм

ЗНТЦ вывел на испытания два образца установки электронно-лучевой литографии 150 нм. Это шаг к своим фотошаблонам и чипам для спецзаказов.

🎯
КИТАЙ 28 Июл 2026 · 3 мин

Китай начал серийный выпуск DUV-сканеров для SMIC и CXMT

Первые китайские иммерсионные DUV-сканеры могут уйти на фабрики SMIC, Hua Hong и CXMT уже в 2026 году, при плане выпуска…

🌐
ЗНТЦ 21 Июл 2026 · 5 мин

В России испытали электронно-лучевой литограф на 150 нм

В России созданы два опытных образца электронно-лучевого литографа на 150 нм. Разработка ЗНТЦ нацелена на прототипы, фотошаблоны и малые серии…

🔬
КИТАЙ 09 Июн 2026 · 4 мин

Китайский стартап заявил о выпуске фотонных чипов без DUV-литографии

Китайский Prinano заявил о выпуске 8-дюймовых пластин для фотонных чипов без DUV-литографии и пообещал снижение затрат на 90%.

Huawei показала метод создания чипов 1.4 нм без EUV
HUAWEI 02 Дек 2025 · 2 мин

Huawei представила метод создания чипов на уровне 1.4 нм без EUV

Huawei анонсировала новый метод проектирования чипов Tau Scaling Law, позволяющий производить чипы на уровне 1.4 нм без EUV-технологий.